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天宇科技被突如其来的订单推动着高速运转。
那仅有的三套光刻机生产线，如同瓶颈一般，制约着芯片生产的规模与速度。
林宇再次踏入姜老的实验室，心中满是对光刻机技术进展的期待。
实验室里一如既往地弥漫着严谨而专注的氛围。
各种仪器设备发出轻微的嗡嗡声，仿佛在诉说着研发工作的紧张与忙碌。
姜老正站在一块巨大的白板前，上面画满了复杂的光路图和技术参数，他正和几位年轻的研究员热烈地讨论着。
看到林宇进来，姜老脸上露出一丝欣慰的笑容：“林总，你又来关心光刻机的进展了。”
林宇急切地回应道：“姜老，这订单压力实在太大了，光刻机的产量直接关系到我们能否按时交付产品啊。
上次那100纳米光刻机技术现在进展得怎么样了？”
姜老放下手中的笔，带着林宇走到一台大型设备前。
这台设备被各种线缆和防护装置包裹着，看起来充满了科技感。
“林总，你看，自从上次你来过后，我们在100纳米光刻机技术上又取得了不少关键的进展。”
姜老一边说，一边示意助手打开设备的展示模式。
设备的显示屏上开始出现各种数据和模拟动画。
姜老指着屏幕上的一个部件模型解释道：“这是我们重新设计的光刻镜头，在你给我们的技术基础上，我们进一步优化了镜头的光学结构。
现在这个镜头的数值孔径提高了不少，能够更有效地收集和聚焦光线，这对于提高光刻分辨率至关重要。”
林宇看着屏幕上复杂的结构模型，心中满是惊喜：“姜老，这看起来很了不起啊。
那这个镜头在实际测试中的表现如何呢？”
姜老微微一笑，带着林宇来到一个测试间。
测试间里，一台小型的光刻实验设备正在运行。
透过观察窗，可以看到微弱的光线在芯片样本上精确地刻蚀着微小的电路图案。
“林总，我们已经进行了多次实际测试。
这个新镜头在100纳米尺度下的光刻精度已经非常稳定了。
它能够清晰地刻出复杂的电路结构，而且在不同的芯片材料上都表现出了良好的适应性。”
姜老自豪地说道。
林宇心中的一块大石头落了地：“姜老，这真是个好消息。
那euv光源的稳定性问题呢？上次您提到这个是一个关键的挑战。”
姜老的表情变得严肃起来：“林总，euv光源的稳定性我们也有了很大的改善。
你还记得上次我们调整了光源的激发频率和能量输入方式吗？在那之后，我们又对光源的内部结构进行了优化。”
姜老带着林宇来到一个单独的房间，里面摆放着一个巨大的euv光源装置。
装置周围布满了各种监测仪器，数据在屏幕上不断跳动。
“我们改进了euv光源的等离子体产生机制，通过精确控制电子的注入和磁场的约束，使得等离子体的稳定性大大提高。
现在，euv光源的输出功率波动已经控制在一个非常小的范围内，基本能够满足长时间光刻的需求。”
姜老详细地介绍着。
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