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第226章 解决方法(第1页)

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程实笑了笑:“我还以为是什么大问题呢。

存储量不足、卡顿,根子都在芯片上,说白了就是要做芯片升级。

至于光刻机提高精度,本身就是为了适配更先进的芯片生产,也不是什么难事。”

“升级芯片?”

王志和谢三元眼睛一亮,随即又皱了皱眉,“程总,你有办法解决?我们之前用的还是你在电科所和生产远景无偿提供的技术,生产的芯片精度只有18微米,虽说够用,但总觉得还有提升空间。”

“当然有。”

程实点点头,语气肯定中带着一丝凝重,“你们只知其一不知其二。

计算机的存储问题,核心就是存储芯片的性能跟不上。

我之前给你们的18微米芯片技术,是基于咱们当前工业基础量身定制的,稳妥有余,但先进性不足。”

他顿了顿,指尖在桌沿轻轻敲击,前世关于芯片发展的记忆清晰浮现:“你们可能还不知道,现在欧美那些国家,已经能造出18微米以下的芯片了,最先进的甚至摸到了10微米的门槛。

他们的芯片体积更小、功耗更低,这也是他们仿制品能压低成本的原因之一——核心元件更精简了。”

王志和谢三元脸色一变,谢三元急声道:“18微米以下?那我们的差距岂不是越来越大?”

“差距是客观存在,但不是不可弥补。”

程实语气沉稳,“我前世见过更先进的芯片制程,知道问题的关键在哪。

这次给你们设计的存储芯片,不仅要把精度提到12微米,还要优化晶圆蚀刻工艺,提升良品率。

之前咱们生产18微米芯片,良品率只有六成左右,这次我能把它提到八成以上,产能自然就能跟着提上去。”

他拿起桌上的纸笔,快速画了个简易的芯片结构示意图:“你们看,这是传统18微米芯片的电路布局,冗余太多。

我重新设计的这个,在缩小线宽的同时,优化了电路排布,既能提高存储密度,又能降低功耗,这样计算机存储量至少能提高十倍,卡顿问题自然迎刃而解。”

“至于光刻机,”

程实话锋一转,指向另一张空白宣纸,“要生产12微米的芯片,现有光刻机的精度就不够用了。

之前的光刻机只能适配18微米及以上的制程,要做更小线宽的芯片,必须优化镜头和光源系统。

把现有镜头的镜片组数增加两组,换成高折射率的光学玻璃,再把光源换成汞灯,提高光的单色性和强度,这样蚀刻精度就能稳定在12微米,甚至能冲击10微米。”

“太好了!”

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